专利申请布局的原则和方法

专利申请布局是指根据企业的发明创新,制定合理的专利保护策略,以达到最大化专利价值和维权效果的过程。专利申请布局分为宏观布局和微观布局两个层面。

专利申请布局

(一)宏观布局

宏观布局是指从企业的整体角度,综合考虑行业地位、自身资源、竞争环境、优势劣势、战略规划等因素,确定专利申请的目标、方向、范围和重点。宏观布局要求企业有清晰的发展愿景和目标,有对市场和技术的深入分析和预测,有对自身和竞争对手的优劣势评估,有对专利保护的需求和期望,有对专利申请的预算和投入产出比的考量。

(二)微观布局

微观布局是指针对每个具体的发明创新,根据其技术内容和特点,采用合适的专利保护形式和方式,以实现最佳的专利保护范围和效力。微观布局主要涉及以下几个方面:

  • ①发明思想本质化。即用一句话概括发明创新所解决的基本问题或实现的核心功能。这有利于把握发明创新的本质特征,避免在专利申请中写入过多或过少的技术特征,导致保护范围过大或过小。

  • ②发明思想方案化。即考虑所有能够实现发明思想的技术方案,并选择最优或最具代表性的方案作为专利申请的主要内容。这有利于展示发明创新的多样性和广泛性,增加专利申请的成功率和价值。

  • ③发明方案具体化。即考虑技术方案中所有必要的技术特征,并将其清楚地描述在专利申请中。这有利于界定专利权人的独占权利,防止他人通过改变非必要技术特征来侵犯专利权。

  • ④具体方案多样化。即考虑技术特征的所有可能变化或变形,并将其作为备选方案或附加特征写入专利申请中。这有利于扩大专利保护范围,减少他人规避设计或等同侵权的可能性。

(三)其他注意事项

在进行微观布局时,还需要注意以下几点:

  • ①保护主题全面。即根据发明创新涉及的对象或领域,选择合适的保护主题,如方法、装置、系统、产品等,并尽量使每个保护主题都能独立起诉,避免间接侵权或举证困难。

  • ②技术特征必要化。即在描述技术特征时,只写入必要且足够支持发明思想实现的技术特征,避免写入非必要或过于具体的技术特征,导致保护范围过窄或不符合新颖性或创造性要求。

  • ③技术特征上位化。即在描述技术特征时,尽量使用上位概念或通用术语,而不是下位概念或特定术语,以覆盖所有可能的替换方式或实施形式。例如,使用“显示器”而不是“液晶显示器”或“LED显示器”。

  • ④发明思想的应用领域扩展。即在确定发明思想后,全面审视其在不同的应用领域或场景中的可专利性,并根据需要进行相应的专利申请布局,以增加专利的广泛性和适用性。

  • ⑤发明思想的保护形式选择。即根据发明创新的特点和目的,选择合适的专利保护形式,如发明专利实用新型专利、外观设计专利等,并考虑与其他知识产权形式,如商业秘密、竞业禁止、商标、著作权等的协同配合。不同的专利保护形式有不同的客体特点、期限、维权难度和保护强度,需要综合考量。